El analizador de metales de alto rendimiento de cuarta generación
Detección de metales basada en CMOS, descarga de chispa
Límites de detección ultrabajos
Alta integración, confiabilidad y estabilidad.
Costos operativos reducidos y fácil mantenimiento.
Cámara óptica de vacío y bajo consumo de argón
Tecnología de chorro de argón para optimizar el análisis de muestras pequeñas
Modificación de parámetros estandarizados
Máximo 30+ elementos
Análisis de alto contenido de nitrógeno (N) 0,03-0,9%
Resumen:
El espectrómetro de emisión óptica W5 incorpora tecnología avanzada de Europa. Es el 4.º el El espectrómetro Arc/Spark-OES de nueva generación ofrece un alto rendimiento y un bajo coste operativo para el análisis de metales. Este es el último desarrollo en investigación y desarrollo de equipos de detección. El diseño óptico general se ha optimizado, y las mejoras en la tecnología CMOS se han aplicado para optimizar aún más el rendimiento del W5, conservando las principales ventajas de las unidades anteriores. El espectrómetro CMOS no solo ofrece las características de espectro completo de un espectrómetro CCD, sino que también ofrece un límite de detección extremadamente bajo para elementos no metálicos como C, S, P, B, As, N, etc. Su funcionamiento es sencillo y fácil de aprender. Los resultados de las pruebas son estables y precisos. Es una excelente opción para el control de calidad de productos entrantes y salientes de todos los metales comunes.
Solicitud:
El espectrómetro de emisión óptica W5 (spark OES) se utiliza para aplicaciones en análisis elemental de metales, análisis de elementos traza para la ciencia y la industria como metalurgia, fundición, ingeniería mecánica, investigación científica, inspección de productos, automóviles, ingeniería petroquímica, construcción naval, electricidad, aeroespacial, energía nuclear, fundición metálica y no ferrosa, procesamiento y reciclaje.
Plantas de acero donde se necesita alta precisión o elementos como C, N, Cr, S, P etc.
Laboratorios de pruebas: Laboratorios de pruebas comerciales, Universidades y colegios
Aplicaciones de metales puros pureza Al, Pb, Zn, C tú etc. – la mayoría de los usuarios industriales
Cumplimiento normativo LOD muy bajos para controlar Pb, Cd, As, etc.
Fundiciones que necesitan un análisis rápido cerca del horno
Instalaciones de fabricación
Identificación de material de almacén
Base: Fe, Cu, Al, Ni, Co, Mg, Ti, Zn, Pb, Sn, Ag, Mn, Cr, etc.
Características :
1.Sistema óptico de rendimiento superior, digital inteligente parque Fuente
2. Puede detectar elementos como C, P, S, N y es adecuado para una variedad de bases metálicas.
3. El diseño del circuito de gas argón es razonable para acortar el tiempo de lavado con argón cuando se excita la muestra.
4. La velocidad de análisis es rápida, todos los elementos del canal se pueden probar en 20 segundos.
5. La trampa de absorción sólida puede evitar que el petróleo y el gas contaminen la cámara de luz y mejorar su estabilidad.
6.Modificación de parámetros estandarizados.
7. Función de corrección de muestra de control.
8. Todos los dispositivos principales son originales importados para garantizar la calidad de los productos.
Parámetro :
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Artículo |
Índice |
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Sistema óptico |
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Estructura óptica |
El sistema óptico de tipo vacío completo de construcción Paschen Runge |
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Temperatura ambiente |
35℃±0,5℃ |
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Rango de longitud de onda |
130-800 nm |
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Longitud focal |
400 mm |
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Línea de rejilla |
2400 m1/mm |
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Dispersión de línea espectral de primer orden rara |
1,2 nm/mm |
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Detector |
Matriz CMOS lineal multibloque de alto rendimiento |
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Relación de resolución media |
10 pm/píxel |
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Mesa Spark |
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Gas |
Gas argón (99,999%) |
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caudal de argón |
Cuando hay chispa: 3-5L/min Tiempo de espera: no es necesario tener tráfico en espera |
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Electrodo |
Tecnología de electrodos de tungsteno |
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Purga |
Función de purga automática |
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Constituir |
Diseño de autocompensación de deformación térmica |
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Analizar la brecha |
Platina de muestra: 3,4 mm |
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Fuente de chispa |
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Tipo |
HEPS |
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Frecuencia |
100-1000 Hz |
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Corriente de descarga |
1-400A |
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Tecnología especial |
Optimización del diseño de parámetros de descarga |
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Precombustión |
Tecnología de precombustión de alta energía |
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Procesador |
ARM de alta gama, adquisición y procesamiento de sincronización de datos de alta velocidad |
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Sistema de recopilación de datos |
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Interfaz |
Transmisión de datos Ethernet basada en DM9000A |
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Fuerza |
220 V CA 50/60 Hz (personalizado) |
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Otros |
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Base |
Fe, Cu, Al, Ni, Co, Mg, Ti, Zn, Pb, Sn, Ag, Mn, Cr, etc. |
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Consumo de energía |
Máximo: 750 W en espera: 40 W |
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Temperatura de trabajo |
10-35℃ （ temperatura ≥5°C） |
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Humedad de trabajo |
20-85% |
|
Dimensión |
860 mm (largo) x 680 mm (ancho) x 438 mm (alto) |
|
Peso |
Alrededor de 100 kg |
El analizador de metales de alto rendimiento de cuarta generación
Detección de metales basada en CMOS, descarga de chispa
Límites de detección ultrabajos
Alta integración, confiabilidad y estabilidad.
Costos operativos reducidos y fácil mantenimiento.
Cámara óptica de vacío y bajo consumo de argón
Tecnología de chorro de argón para optimizar el análisis de muestras pequeñas
Modificación de parámetros estandarizados
Máximo 30+ elementos
Análisis de alto contenido de nitrógeno (N) 0,03-0,9%
El analizador de metales de alto rendimiento de cuarta generación
Detección de metales basada en CMOS, descarga de chispa
Límites de detección ultrabajos
Alta integración, confiabilidad y estabilidad.
Costos operativos reducidos y fácil mantenimiento.
Cámara óptica de vacío y bajo consumo de argón
Tecnología de chorro de argón para optimizar el análisis de muestras pequeñas
Modificación de parámetros estandarizados
Máximo 30+ elementos
Análisis de alto contenido de nitrógeno (N) 0,03-0,9%
El analizador de metales de alto rendimiento de cuarta generación
Detección de metales basada en CMOS, descarga de chispa
Límites de detección ultrabajos
Alta integración, confiabilidad y estabilidad.
Costos operativos reducidos y fácil mantenimiento.
Cámara óptica de vacío y bajo consumo de argón
Tecnología de chorro de argón para optimizar el análisis de muestras pequeñas
Modificación de parámetros estandarizados
Máximo 30+ elementos
Análisis de alto contenido de nitrógeno (N) 0,03-0,9%
El analizador de metales de alto rendimiento de cuarta generación
Detección de metales basada en CMOS, descarga de chispa
Límites de detección ultrabajos
Alta integración, confiabilidad y estabilidad.
Costos operativos reducidos y fácil mantenimiento.
Cámara óptica de vacío y bajo consumo de argón
Tecnología de chorro de argón para optimizar el análisis de muestras pequeñas
Modificación de parámetros estandarizados
Máximo 30+ elementos
Análisis de alto contenido de nitrógeno (N) 0,03-0,9%
El analizador de metales de alto rendimiento de cuarta generación
Detección de metales basada en CMOS, descarga de chispa
Límites de detección ultrabajos
Alta integración, confiabilidad y estabilidad.
Costos operativos reducidos y fácil mantenimiento.
Cámara óptica de vacío y bajo consumo de argón
Tecnología de chorro de argón para optimizar el análisis de muestras pequeñas
Modificación de parámetros estandarizados
Máximo 30 elementos
Análisis de alto contenido de nitrógeno (N) 0,03-0,9 %
El analizador de metales de alto rendimiento de cuarta generación
Detección de metales basada en CMOS, descarga de chispa
Límites de detección ultrabajos
Alta integración, confiabilidad y estabilidad.
Costos operativos reducidos y fácil mantenimiento.
Cámara óptica de vacío y bajo consumo de argón
Tecnología de chorro de argón para optimizar el análisis de muestras pequeñas
Modificación de parámetros estandarizados
Máximo 30+ elementos
Análisis de alto contenido de nitrógeno (N) 0,03-0,9%
El analizador de metales de alto rendimiento de cuarta generación
Detección de metales basada en CMOS, descarga de chispa
Límites de detección ultrabajos
Alta integración, confiabilidad y estabilidad.
Costos operativos reducidos y fácil mantenimiento.
Cámara óptica de vacío y bajo consumo de argón
Tecnología de chorro de argón para optimizar el análisis de muestras pequeñas
Modificación de parámetros estandarizados
Máximo 30+ elementos
Análisis de alto contenido de nitrógeno (N) 0,03-0,9%
materiales de referencia certificados SUS basados en cu
materiales de referencia certificados SUS basados en mg
materiales de referencia certificados SUS basados en zn
materiales de referencia certificados SUS basados en fe
materiales de referencia certificados por SUS a base de al
materiales de referencia certificados SUS basados en sn
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